產(chǎn)品型號(hào)
廠商性質(zhì)
更新時(shí)間
瀏覽次數(shù)
產(chǎn)品分類
相關(guān)文章
v 應(yīng)用領(lǐng)域：RCA清洗，濕法去膠，介質(zhì)層濕法刻蝕，金屬層濕法刻蝕，爐管前清洗等
v 晶圓尺寸：100mm~300mm
v 設(shè)備配置：
? 支持化學(xué)液C.C.S.S.、L.C.S.S
? Marangoni dry 或 spin dry
? 自動(dòng)換酸，自動(dòng)補(bǔ)液、配液
? 加熱控制，濃度控制，流量控制，壓力控制等
? 槽體過溫保護(hù)，各單元配置漏液傳感器
? 支持化學(xué)液回收
? 全面支持SECS/GEM通訊協(xié)議
v 工藝指標(biāo)：蝕刻非均勻性片內(nèi)：≤4%；片間：≤4%；批次間： ≤4%；
v 顆粒控制：增加值<30顆@0.09μm（帶氧化硅膜測(cè)試，來料顆粒<50顆）
v 金屬離子：<5E9 atoms/cm2
上一篇激光退火設(shè)備
